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广东省爱发科真空泵有油-广州潽拓光电公司

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在正常工作时,可把水温调节到略高于来消除泵体外部可能形成的冷凝物。

启动系统要先接通冷却水流,打开前级管道阀门,再同时启动机械泵和涡轮分子泵。在泵加速到额定转速(一般为5到10min)后,就可加注液氮冷阱。此后就可按上节所介绍的步骤对真空室进行抽气。所给出的不用高真空阀门的抽气系统的操作,要比有阀门的抽气系统简便得多。操作时,先打开冷却水和前级管道阀,并同时启动机械泵和涡轮分子泵。如粗抽泵选择得当,使真空室的粗抽时间等于加速时间,那么真空系统就能在没有泵油蒸气返流的情况下把真空室抽到其本底压力。



1-检漏接口阀;2-涡轮分子泵;3-放气阀;4-电离规;5-热传导规;6-真空管路阀;7-电磁放气阀;8-机械泵。图2 不用阀门的涡轮分子泵抽气系统无阀门系统在放气和停机时,首先关闭前级管道阀,等泵转速下降到很大转速的50%时再在泵的上方充入干燥气体。当系统充到大气压时应关闭放气阀门,否则会造成真空室过压。然后按上述介绍的方法关掉机械泵并停掉冷却水。



没有单设粗抽管路的涡轮分子泵系统的操作:先打开分子泵冷却系统和前级管路阀,并同时启动前级(粗抽)机械泵和涡轮分子泵。如果粗抽泵(前级泵)选择得当,使真空室的粗抽时间等于分子泵的加速(启动)时间,则真空系统就能在没有泵油蒸汽返流的情况下把真空室抽到其本底压力。


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真空泵常规性能参数测试:抽速、压缩比等性能参数是分子泵设计之初就要首先考虑的,也是各项设计调整优化的重要目标。很终产品定型时,对外发布的各项参数和曲线,比如下图的抽速和压缩比曲线,都来自于这些测试的结果。这些测试都有相关的,在此不再展开描述。在泵处于垂直、水平和倒立状态时,各进行6次冲击测试所测试的泵在24次跌落后无任何问题(不发生转子机械接触,泵运行状态不变)。



在每次跌落后验证泵的不平衡性,结果表明变化,远低于阈值。抗振动测试通过对一批泵(处于运行和非运行条件下)进行一系列测试,证明对外部源产生振动的耐受性在105分钟的振动周期中,全转速和不运行的每个泵在垂、水平、倒立方向上受到0.5–2g加速度水平的振动。该测试证实了泵的稳定性以及耐振性,因为未观察到转子机械接触或泵运行状态的改变,且泵不平衡性仍然远低于阈值。



温度测试将泵置于–40°C至+70°C(处于非运行状态)以及0°C至40°C(处于运行状态)下暴露86小时。对每个泵的不平衡性和是否可正常操作验证11次,结果显示仅存在的变异,远低于阈值。温度测试证实了泵在各种预期运行和非运行温度条件下的稳定性。傅立叶振动分析在制造过程中以及泵运输前的很后测试中,对每台泵的振动频谱进行验证。全速下的平均很大振动水平:0.4m/s2。


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半导体产业链IC制造行业属于典型的技术密集型行业,产品技术含量非常高,同时对配套产业要求较高,其中就包括真空设备配套产业。真空设备(真空阀、真空泵、真空腔体及管道等)是半导体各工艺制程环节必备的通用设备,广泛应用于芯片生产制造过程。  半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂,需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作,例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。



这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行,而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中,分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的设备,制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,世界上只有少数厂家掌握,因此光刻机价格昂贵。



光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现,原因是极紫外光很娇贵,在空气中容易损耗。同时,在光刻过程中,设备的动作时间误差以皮秒计,这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。(注:皮秒=兆分之一秒)薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜,这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成,是使用多种工艺生长或沉积的。


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