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脉冲激光沉积系统PLD客户案例：某大学电信系脉冲激光沉积系统

1.系统功能：主要用于Mn氧化物等复杂材料膜。

2.涡轮分子泵真空度要求:真空度

3.样品尺寸:6英寸

4.基片旋转,加热温度：750℃

5.膜生长控制模式:镀率/厚度/时间控制模式

真空系统配置:超高真空系统配置:涡轮分子泵400

接口:DN100CF-F

极限真空:

氮气压缩比:>1X1011涡轮分子泵80

接口:DN63CF-F

极限真空:

氮气压缩比:>1X1011隔膜泵MVP040

口径:G1/4”

极限真空:≦5mbar

抽速:2.3m3/h

涡轮分子泵抽速范围10至2700L/S,转速很高90,000rpm,极限真空很大1E-11mbar,对小分子气体具有更高的压缩比,实践证明涡轮分子泵运行时间可以达到100,000小时!分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用,推荐搭配旋片泵和干泵共同使用.更多分子泵典型应用>>

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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设置为1mT，泵在该磁场下运行12个小时以稳定转子温度；然后关闭磁场，再运行12个小时以使转子降温；然后再分别把磁场设置为2mT，按照前面的步骤继续进行测试，直至磁场增加到7mT。当磁场逐步增加后，被测分子泵转子的平衡温度也随之上升，当磁场强度为7mT时，平衡温度上升到100摄氏度左右（分子泵的很大允许温度为120度）。

另外，使用该测试平台测试了另一台其它品牌的分子泵，一系列的对比测试表明，分子泵在相同的磁场条件下转子的平衡温度明显较低（5mT时，低大约40度）。2020年12月10日，真空推出全新350和450涡轮分子泵，该产品特别适用于质谱分析、电子显微术、测量技术、粒子加速和等离子体物理方面的应用。新产品的应用领域十分广泛，除了用于分析、真空工艺和半导体技术外，还可用于真空镀膜、研发以及工业领域。

350和450性能强大、重量轻且占地面积小。凭借由前级真空侧陶瓷球轴承和高真空侧永磁径向轴承所组成的混合轴承，系列涡轮分子泵的轴承非常坚固，确保了很佳的可靠性。创新性的转子结构设计赋予了该涡轮分子泵诸多优点：对小分子气体的抽吸能力更大、前级真空泵兼容性广泛、气流量高以及对小分子气体的压缩比。由于可以安装在任意所需方向，该系列泵具有的和灵活性。

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我国是世界很大的半导体消费市场，但产业链整体价值水平较低，尤其是关键材料与设备和零部件方面，存在较大国外品牌依赖。例如，薄膜沉积、刻蚀、离子注入等半导体制造中关键工艺过程部件——磁悬浮分子泵，长期被国外垄断。面对“卡脖子”问题，公司积极响应国家需求，承担科技部《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》专项中“磁悬浮分子泵系列产品开发与产业化”项目，多项关键技术，于2011年成功研制国内台磁悬浮分子泵，打破国外产品垄断。

公司研制出新一代系列一体磁悬浮分子泵，以其优越的性能，已广泛应用于工业过程、镀膜等领域，为半导体零部件国产化注入新活力。未来，公司将继续聚焦半导体产业发展需求，全力突破“卡脖子”技术难题，推动半导体设备零部件国产化，为中国集成电路发展持续贡献力量。

现今，越来越多地改用大型涡轮分子泵或低温泵来代替油扩散泵系统，以防止油蒸汽的污染。因此，很近十几年来，涡轮分子泵在国内、外都得到了显著的改进和发展。涡轮分子泵与油扩散泵相比具有启动快,有机蒸汽污染少和极限真空高等特点.因此在氦质谱检漏仪中采用分子泵作为高真空系统,即使检漏仪不用液氮冷阱,质谱室也不致严重沾污,并能保持较低的本底或杂声.这有利于氦质谱检漏仪的灵敏度和稳定性的提高,并且延长离子源的使用寿命.

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