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它的特点主要有： 1、泵腔内有可旋转的转子，转子的四周带有沟槽并用挡板隔开。每一个沟槽就相当于一个单级分子真空泵，后一级的入口与前一级的出口相连。 2、转子与泵壳之间有 的间隙，气体分子由入口进入泵腔，被转子携带到出口侧，经排气管道由前级泵抽走。 3、分子真空泵的优点是起动时间短，在分子流态下有很高的压缩比，能抽除各种气体和蒸汽，特别适于抽除较重的气体。 

它的不足：抽速小，密封间隙太小，工作可靠性较差，易出机械故障等，因此除特殊需要外，实际上很少应用。曾一度被结构和制造简单，抽速大的扩散泵所代替。分子泵报价, 涡轮分子泵主要分为立式和卧式两种。卧式涡轮分子泵，这种结构的分子泵是双轴流的，吸气口在两组抽气单元的中央，气体吸入后，分别被左右两侧的叶列组合抽走。

立式涡轮分子泵，泵由泵壳、涡轮叶列组件和电动机等组成。现代涡轮分子泵转子和定子之间的间隙较大，通常在 lmm 左右，因此泵工作时很安全。接下来主要介绍这两种涡轮分子泵特点： 1、清洁，无油蒸汽返流； 2、使用方便； 3气体输送能力强； 4、适于超高真空应用； 5、高压力下性能良好； 6、循环的时间短；； 7、正常使用时间长； 8、设备费用高；9、对颗粒物或沉积物敏感； 10、噪音与振动； 11、破碎问题； 12、暴露大气易引起事故；

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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典型涡轮分子泵抽气系统涡轮分子泵抽气系统一般不需要用常见的液氮冷阱来阻止轴承润滑油或机械泵泵液的返流只要泵是以额定角速度旋转，那么泵对除很轻的气体氢以外的所有气体都具有比较高的压缩比，足以阻止这些气体从前级管道端返流到高真空端液氮冷却的表面不能捕集因压缩比低而返流到真空室的少量的氢液氮冷阱可用来提高系统对水蒸气的抽速，

其很好的安装位置是在高真空阀的后面，也就是直接设置在涡轮分子泵的喉部上方还可以考虑在高真空阀后面装一个三通管，把涡轮分子泵接在它的一个接口上，而把液氮冷却的表面接在另一个接口上而三通的任何两个接口之间的流导都要小于液氮冷阱的通导然而要使分子泵对水蒸气和空气都具有很大抽速，很佳的安排还是将液氮冷阱安装在涡轮分子泵和高真空阀门之间。

涡轮分子泵抽气系统既不需要用粗抽阱也不需要用前级管道冷阱粗抽与主抽系统之间较高的切换压力能防止机械泵油通过粗抽管道迁移到真空室中去，而泵对碳氢化物馏分的高压缩比也阻止它们从前级管道通过泵反扩散到真空室中去。

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半导体产业链IC制造行业属于典型的技术密集型行业，产品技术含量非常高，同时对配套产业要求较高，其中就包括真空设备配套产业。真空设备（真空阀、真空泵、真空腔体及管道等）是半导体各工艺制程环节必备的通用设备，广泛应用于芯片生产制造过程。  半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂，需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作，例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。

这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中，分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。

光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计，这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。（注：皮秒=兆分之一秒）薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。

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