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许多设备在工作时都会产生磁场，比如，家用电冰箱的磁场强度约有10高斯（1mT），MRI（）的磁场强度甚至会高达3T；尽管可以采取屏蔽等措施，仍然可能会有外漏的杂散磁场，对工作在附近的分子泵产生不好的影响。磁场对涡轮分子泵的可能影响当涡轮分子泵的转子在磁场中旋转时，会产生涡流。这些电流倾向于阻碍转子的旋转，并导致电机的功率增大。

由于泵转子不与定子接触，涡生的热量和额外的功率主要通过辐射消散。因此，转子可能会过热，即使泵体及其它静止的部件仍然是冷的。为了确认磁场对分子泵工作的影响，德国卡尔斯鲁厄理工学院（）设计并执行了下面的测试：测试条件和装置被测分子泵的型号为TwisTorr304FSCFF6，使用一对亥姆霍兹线圈(直径120厘米)来产生包围整个泵的均匀磁场。

被测分子泵由一台涡旋干泵作为前级，分子泵的进气口压力抽至1E-3mbar以下（该压力以下，热对流几乎为零，分子泵转子的热量仅可以通过辐射传递出去很小的一部分）。使用20℃的冷却水对分子泵持续进行冷却；分子泵的控制器会自动调整电机电流，保持转子以恒定转速运行。

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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通用的沉积技术有化学气相淀积（CVD）、蒸发和溅射PVD。一般来说，其中还要夹杂低温（≤500℃）退火工艺等热处理工艺，用以增进金属层和半导体之间的低电阻接触、消除内应力等。设备运行过程中需要高洁净的真空环境，一般采用以磁悬浮分子泵为主的无油真空系统。

刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统，同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂，清洁性差，充入特种气体种类繁多，因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。

离子注入设备：离子注入是指在真空环境下，当离子束射向固体材料时，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并很终停留在固体材料中的现象。离子注入是半导体表面附近区域进行掺杂的主要技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入机是集成电路制造工序中的关键设备，需要高清洁的真空环境，以保证离子掺杂浓度和剂量的准确性。

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分子泵转速对氦质谱检漏仪的灵敏度有什么影响？

今天，小编将向大家介绍分子泵转速对氦质谱检漏仪的灵敏度有什么影响，希望对大家有所帮助。分子泵是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子,使之获得定向速度,从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种泵。分子泵是获得高和超高的关键设备之一。

它被广泛应用于电子工业、表面工程、核能工业、等离子体技术、薄膜工程等工业领域和研究部门。它操作简单、启动时间短,在分子流区域内对各种气体的有效抽速几乎不变,对分子量高的气体压缩比高,可以获得清洁无油的高和超高环境。

分子泵是氦质谱检漏仪中获得高重要部位,是氦质谱检漏仪中不可或缺关键部件,分子泵性能直接影响检漏仪性能参数的好坏,分子泵的发展直接影响着氦质谱检漏技术。逆扩散型的检漏仪的检漏口是连接到高泵与低泵之间,所以被检试件的可检漏压力就是高真泵的前级耐压。如果试件压力超过这个压力,将使高泵不能正常工作。普通涡轮分子泵的前级耐压,一般不超过50Pa,远达不到高压检漏的要求。

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