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实验与分析氦质谱检漏仪工作在不同的分子泵转速下，在仪器的检漏口连接标漏信号，检测氦质谱检漏仪在不同分子泵转速下，所获得的信号值。

实验器材：

(1)氦质谱检漏仪SFJ-231,1台；

(2)渗氦型标准漏孔（3.0×10-10Pa.m3/s),1只；

(3)渗氦型标准漏孔（1.5×10-Pa.m/s),1只；

(4)标准漏孔TL4-6,1只。

实验步骤：

(1)开启氦质谱检漏仪；

(2)仪器进入检漏状态运行2h后；

(3)仪器按下停止键，仪器进入待机状态(4)进入仪器的参数设置，将分子泵的转速设定为1500Hz；

(5)待仪器进入待机状态

(6)将渗氦型标准漏孔(3.0×100Pa.mYs)连接在检漏口；

(7)检漏仪按开始键，检测仪器的显示值，并记录；

(8)仪器按下停止键后按下开始键，再次检测仪器的显示值，共记录3次数据(9)仪器在待机状态，进入仪器的参数设置，将分子泵的转速设定为1000Hz；

(10)重复7、8步骤；

(11)进入仪器的参数设置，将分子泵的转速设定为1500Hz；

(12)在仪器检漏口连接渗氦型标准漏孔(1.5X10*Pa.ms)1只；

(13)重复7、8、9、10步骤(14)进入仪器的参数设置，将分子泵的转速设定为1500Hz；

(15)在仪器检漏口连接标准漏孔TL4-6(16)重复7、8、9、10步骤。

(16)重复7、8、9、10步骤。

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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半导体产业链IC制造行业属于典型的技术密集型行业，产品技术含量非常高，同时对配套产业要求较高，其中就包括真空设备配套产业。真空设备（真空阀、真空泵、真空腔体及管道等）是半导体各工艺制程环节必备的通用设备，广泛应用于芯片生产制造过程。  半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂，需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作，例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。

这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中，分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。

光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计，这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。（注：皮秒=兆分之一秒）薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。

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近日，真空推出了一款新型涡轮分子泵，便是对此交出的一份答卷。这款分子泵的寿命更长，而且采用了该公司开发的一项技术，使得真空设备更加耐用，振动水平更低，噪音更小。真空的涡轮分子泵.具体来讲，通过分配几何确定的动平衡孔和渐近的动平衡配重法，利用激光烧蚀把多余的材料去除，如此一来，转子的不均匀质量分布能够在所有点位逐个进行的处理，来达到很佳的动平衡性。

与传统动平衡相比，用激光去除材料要准确得多，剩余不平衡会更低。而且在这个过程中，材料特性并不会受到影响。可以说，改变了传统的动平衡过程，将不均匀的质量分布降到了很低。采用传统动平衡（左）和采用激光烧蚀段的激光动平衡（右）动平衡等级对比.据了解，通过现代化的自动平衡系统，涡轮分子泵转子的动平衡品质提高了20%，从而大幅提高转子寿命，并降低泵在运行期间的振动和噪音水平。

值得一提的是，激光烧蚀产生的颗粒，在加工过程中即可抽出和过滤掉，随后对激光平衡后的转子进行清洁，由于无需手动拧紧螺丝，所以确保了表面的很高清洁度，并且也避免了平衡孔中的气穴造成的虚漏现象。因此，用技术加持的涡轮分子泵可以满足更为苛刻的工作环境要求，尤其是在需要更低振动和静音的应用中，该系列涡轮分子泵可以大大提升用户体验。

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