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鉴定充分肯定了公司的技术研发、制造工艺以及检测能力，公司在科技部02专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”——《磁悬浮分子泵系列产品开发与产业化》重大专项研制成果基础上，成功研制新一代智能化、一体化的磁悬浮分子泵。经过质询和讨论，鉴定很终鉴定意见为：公司研制的磁悬浮分子泵系列产品为国内首台（套），具有自主知识产权，主要性能指标达到水平，取得了显著的经济及社会效益，建议进一步推广应用。

作为中国真空技术者，公司始终以“创新科学仪器，发展企业”为使命，以电子光学和真空技术，打造科学仪器设备及装备制造国家队，在“十四五”规划的新征程，立足新发展阶段、坚持新发展理念、构建新发展格局，为强化国家战略科技力量、实现科技自立自强做出新的贡献。

操作注意事项不能在前级泵工作时（前级管道接通）和真空室处于真空状态时将涡轮分子泵停掉，否则将会使油蒸汽迅速从前级管路返流到泵的清洁端。分子泵系统在停机充干燥气体前，一定要先将分子泵冷却水关闭，且要从泵的高真空端充气。决不能从泵的前级管路进行充气。选择抽气系统前级泵的大小时，应使涡轮分子泵的前级保持在分子流状态下。不能让涡轮分子泵在低于额定工作转速下运转。

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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半导体产业链IC制造行业属于典型的技术密集型行业，产品技术含量非常高，同时对配套产业要求较高，其中就包括真空设备配套产业。真空设备（真空阀、真空泵、真空腔体及管道等）是半导体各工艺制程环节必备的通用设备，广泛应用于芯片生产制造过程。  半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂，需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作，例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。

这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中，分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。

光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计，这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。（注：皮秒=兆分之一秒）薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。

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传统的动平衡技术通过增加额外的质量，例如动平衡配重块，来减少质量分布的不均匀。质量动平衡借助机械加工流程而得到广泛使用，其中包括诸如磨削以及通过钻孔去除材料等工艺。在传统的动平衡过程中，转子的径向偏移是在轴承附近的两个测量层测量的。转子的不平衡度利用一种特殊的算法来确定。为了降低总不平衡程度，转子沿旋转轴分成多个平衡等级，每个等级都有相应的孔。

动平衡配重块沿着各平衡等级的圆周手动拧入。这样就降低了质量分布的不均匀，转子的剩余不平衡度被减少到所需的极限值以下。这里的不平衡度将在多种速度下确定，并逐步完成补偿，从而降低转子的振动并达到额定速度。

近些年来，涡轮分子泵的应用场景越来越多，许多制造领域以前常用低温泵和扩散泵来作为超高真空泵，目前已多被涡轮分子泵所取代。此外，随着相关应用领域对工作环境的要求越发严苛，对涡轮分子泵也提出了更高要求，特别是在次级特性方面。因此，高速转子一直需要进一步开发，包括转子的使用寿命、振动水平（即泵壳上发出的声响和振动），以及基于部件表面脱气性能方面的洁净度指标。

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