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脉冲激光沉积系统PLD客户案例：某大学电信系脉冲激光沉积系统

1.系统功能：主要用于Mn氧化物等复杂材料膜。

2.涡轮分子泵真空度要求:真空度

3.样品尺寸:6英寸

4.基片旋转,加热温度：750℃

5.膜生长控制模式:镀率/厚度/时间控制模式

真空系统配置:超高真空系统配置:涡轮分子泵400

接口:DN100CF-F

极限真空:

氮气压缩比:>1X1011涡轮分子泵80

接口:DN63CF-F

极限真空:

氮气压缩比:>1X1011隔膜泵MVP040

口径:G1/4”

极限真空:≦5mbar

抽速:2.3m3/h

涡轮分子泵抽速范围10至2700L/S,转速很高90,000rpm,极限真空很大1E-11mbar,对小分子气体具有更高的压缩比,实践证明涡轮分子泵运行时间可以达到100,000小时!分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用,推荐搭配旋片泵和干泵共同使用.更多分子泵典型应用>>

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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设置为1mT，泵在该磁场下运行12个小时以稳定转子温度；然后关闭磁场，再运行12个小时以使转子降温；然后再分别把磁场设置为2mT，按照前面的步骤继续进行测试，直至磁场增加到7mT。当磁场逐步增加后，被测分子泵转子的平衡温度也随之上升，当磁场强度为7mT时，平衡温度上升到100摄氏度左右（分子泵的很大允许温度为120度）。

另外，使用该测试平台测试了另一台其它品牌的分子泵，一系列的对比测试表明，分子泵在相同的磁场条件下转子的平衡温度明显较低（5mT时，低大约40度）。2020年12月10日，真空推出全新350和450涡轮分子泵，该产品特别适用于质谱分析、电子显微术、测量技术、粒子加速和等离子体物理方面的应用。新产品的应用领域十分广泛，除了用于分析、真空工艺和半导体技术外，还可用于真空镀膜、研发以及工业领域。

350和450性能强大、重量轻且占地面积小。凭借由前级真空侧陶瓷球轴承和高真空侧永磁径向轴承所组成的混合轴承，系列涡轮分子泵的轴承非常坚固，确保了很佳的可靠性。创新性的转子结构设计赋予了该涡轮分子泵诸多优点：对小分子气体的抽吸能力更大、前级真空泵兼容性广泛、气流量高以及对小分子气体的压缩比。由于可以安装在任意所需方向，该系列泵具有的和灵活性。

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传统的产品设计和开发过程，常被当作是研制产品的一个步骤，因为产品的设计者不可能对上市时间、质量与可靠性、生产成本、售后及易维护性等全盘掌握，使用传统过程设计的产品在投入生产时不可避免地需要进行反复修改。产品生命周期设计方法通过提议、调查、实验室原型、生产原型、试运行和量产六个步骤来推动和设计过程，

在这些设计过程推进时，采用各种各样的测试和多个部门参与的交互式讨论和分析来决定产品设计方案和方向，而这其中的关键就是各种测试。为了验证各种不同的设计，执行了远超行业标准的大量测试，在量产之前陆续生产了多达1000余台样泵，对各项结构和功能参数进行测试和分析，很终产品定型时，仅选用了结果很佳的结构和方案。

扩展测试

寿命测试在通过对有统计学意义数量的泵进行加速寿命测试（长时间暴露于加速损坏的条件下），对泵的可靠性进行验证。该测试可确保泵无故障运行的平均时间超过五年。

冲击测试对一批泵在运行和非运行条件下进行一系列测试，证明泵的抗冲击性。每个泵受到30–120g的加速度，相当于从82厘米/32英寸高跌落（处于非运行状态的泵）和从15厘米/6英寸高跌落（处于运行状态的泵）。

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