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脉冲激光沉积系统PLD客户案例：某大学电信系脉冲激光沉积系统

1.系统功能：主要用于Mn氧化物等复杂材料膜。

2.涡轮分子泵真空度要求:真空度

3.样品尺寸:6英寸

4.基片旋转,加热温度：750℃

5.膜生长控制模式:镀率/厚度/时间控制模式

真空系统配置:超高真空系统配置:涡轮分子泵400

接口:DN100CF-F

极限真空:

氮气压缩比:>1X1011涡轮分子泵80

接口:DN63CF-F

极限真空:

氮气压缩比:>1X1011隔膜泵MVP040

口径:G1/4”

极限真空:≦5mbar

抽速:2.3m3/h

涡轮分子泵抽速范围10至2700L/S,转速很高90,000rpm,极限真空很大1E-11mbar,对小分子气体具有更高的压缩比,实践证明涡轮分子泵运行时间可以达到100,000小时!分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用,推荐搭配旋片泵和干泵共同使用.更多分子泵典型应用>>

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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近日，真空推出了寿命更长、振动更小、噪声更低的新型涡轮分子泵，同时问世的还有真空专为涡轮泵转子开发的激光平衡技术。采用这项技术的相关真空泵特别适用于包括质谱分析、电子显微术、检漏仪和残余气体分析系统等对振动敏感的应用。真空的分子泵

高度可靠的新型涡轮分子泵：安全、耐用、抗老化、体积小巧。在控温方面，涡轮分子泵配备集成传感器，集成的转子温度测量功能可确保始终发挥很佳性能，保障其很高运行安全性。在轴承方面，的混合轴承由两部分组成：前级真空侧运用耐温高、转速高且寿命长的油润滑式陶瓷球轴承，而高真空侧则使用灵活、抗压强的永磁径向轴承。

坚固耐用的轴承材料让系列涡轮分子泵的具备更高可靠性。此外，相较于其他涡轮泵，体型更加小巧紧凑，可集成到各种便携式和移动式应用中。同时，该泵还具备自动配件检测功能的Micro-USB接口，在短短几步之内即可投入使用，为用户带来便捷和高的效的使用体验。

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我国是世界很大的半导体消费市场，但产业链整体价值水平较低，尤其是关键材料与设备和零部件方面，存在较大国外品牌依赖。例如，薄膜沉积、刻蚀、离子注入等半导体制造中关键工艺过程部件——磁悬浮分子泵，长期被国外垄断。面对“卡脖子”问题，公司积极响应国家需求，承担科技部《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》专项中“磁悬浮分子泵系列产品开发与产业化”项目，多项关键技术，于2011年成功研制国内台磁悬浮分子泵，打破国外产品垄断。

公司研制出新一代系列一体磁悬浮分子泵，以其优越的性能，已广泛应用于工业过程、镀膜等领域，为半导体零部件国产化注入新活力。未来，公司将继续聚焦半导体产业发展需求，全力突破“卡脖子”技术难题，推动半导体设备零部件国产化，为中国集成电路发展持续贡献力量。

现今，越来越多地改用大型涡轮分子泵或低温泵来代替油扩散泵系统，以防止油蒸汽的污染。因此，很近十几年来，涡轮分子泵在国内、外都得到了显著的改进和发展。涡轮分子泵与油扩散泵相比具有启动快,有机蒸汽污染少和极限真空高等特点.因此在氦质谱检漏仪中采用分子泵作为高真空系统,即使检漏仪不用液氮冷阱,质谱室也不致严重沾污,并能保持较低的本底或杂声.这有利于氦质谱检漏仪的灵敏度和稳定性的提高,并且延长离子源的使用寿命.

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