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市场主要磁悬浮分子泵生产商包括真空、Atlas(Edwards&Leybold)、大阪真空机器制造所、和等，按收入计，2021年大厂商占有大约%的市场份额。从产品泵速方面来看，低于1500升/秒占有重要地位，按收入计，2021年市场份额为%，预计2028年份额将达到%。同时就应用来看，半导体行业在2028年份额大约是%，未来几年CAGR大约为%。

根据不同产品泵速,磁悬浮分子泵细分为:

 低于1500升/秒

1500到3000升/秒

 高于3000升/秒

根据不同应用，本文重点关注以下领域：

 半导体行业

 光伏行业

 镀膜行业

 其他

涡轮分子泵的工作特性主要表现在以下几个方面：

（1）抽速与转速的关系抽速与转速之间的关系大致为S（4-67）。其中：g是由几何形状决定的常数；u是活动刀片的转速。随着速度的增加，泵送速度比直线略慢。这可以通过在抽速较高时对进气管电导率的限制来解释。根据（4-66），随着S1的增加，S将偏离直线。

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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脉冲激光沉积系统PLD客户案例：某大学电信系脉冲激光沉积系统

1.系统功能：主要用于Mn氧化物等复杂材料膜。

2.涡轮分子泵真空度要求:真空度

3.样品尺寸:6英寸

4.基片旋转,加热温度：750℃

5.膜生长控制模式:镀率/厚度/时间控制模式

真空系统配置:超高真空系统配置:涡轮分子泵400

接口:DN100CF-F

极限真空:

氮气压缩比:>1X1011涡轮分子泵80

接口:DN63CF-F

极限真空:

氮气压缩比:>1X1011隔膜泵MVP040

口径:G1/4”

极限真空:≦5mbar

抽速:2.3m3/h

涡轮分子泵抽速范围10至2700L/S,转速很高90,000rpm,极限真空很大1E-11mbar,对小分子气体具有更高的压缩比,实践证明涡轮分子泵运行时间可以达到100,000小时!分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用,推荐搭配旋片泵和干泵共同使用.更多分子泵典型应用>>

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半导体产业链IC制造行业属于典型的技术密集型行业，产品技术含量非常高，同时对配套产业要求较高，其中就包括真空设备配套产业。真空设备（真空阀、真空泵、真空腔体及管道等）是半导体各工艺制程环节必备的通用设备，广泛应用于芯片生产制造过程。  半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂，需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作，例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。

这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中，分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。

光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计，这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。（注：皮秒=兆分之一秒）薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。

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